2025-11-13
Porometer的MP²技術(shù)（多級壓力步進平衡法）——現(xiàn)已正式獲得專利——將精密孔隙測量提升至全新高度。
該技術(shù)專為POROLUX™ Revo系列設(shè)計，MP²技術(shù)引入智能壓力控制功能，確保每個數(shù)據(jù)點都在時機和精確壓力下采集——從而實現(xiàn)當今精準、可重復性最高的孔徑測量。
獲專利的MP²技術(shù)
MP²代表多級壓力步進平衡法。這項創(chuàng)新技術(shù)能確保測量過程中壓力平穩(wěn)提升，并加速達到流量與壓力穩(wěn)定狀態(tài)。
為何為MP²技術(shù)申請專利
我們?yōu)镸P²技術(shù)申請專利，既是為了保護這項真正推動孔隙測量科學發(fā)展的突破性成果，也是為了慶祝這一創(chuàng)舉。
通過重新定義壓力控制，MP²技術(shù)確保了無懈可擊的階梯穩(wěn)定性，并在整個過程運行中持續(xù)保持高速。
這不僅是技術(shù)升級——更是數(shù)據(jù)精度與儀器可靠性的里程碑。
Aptco Technologies總經(jīng)理Kees van der Kamp強調(diào)此項新專利的重要性：
“我們的MP²技術(shù)獲得官方專利認證，是對團隊自主研發(fā)所達成的深層科學理解與工程精度的肯定。這彰顯了Porometer對待創(chuàng)新的嚴謹態(tài)度——我們儀器的每個細節(jié)都植根于專業(yè)知識、豐富經(jīng)驗以及對精準性的不懈追求。”
MP²技術(shù)的功能
MP²技術(shù)通過智能方式全程管理測量過程中的壓力建立與穩(wěn)定階段：
在各選定測量點前精準緩釋壓力
保持每個壓力階躍的持續(xù)穩(wěn)定與高度一致性
僅在氣流與壓力達到完全穩(wěn)態(tài)時采集有效數(shù)據(jù)點
注：圖示為采用POROLUX™ Revo測量的聚合物平板膜濕曲線、干曲線及半干曲線 b）擬合孔徑分布圖
這項技術(shù)確保測試結(jié)果具有一致性、可靠性，為材料研究構(gòu)建堅實的認知基礎(chǔ)。
為您帶來的價值
內(nèi)置MP²技術(shù)的POROLUX™ Revo系列使用戶享有：
• 更高測量精度與結(jié)果復現(xiàn)性
• 1mbar級精準控制的壓力遞增區(qū)間
• 更平滑的濕曲線與更精細的孔徑分布圖，同時實現(xiàn)最小化壓力波動
• 針對無紡布、紡織品及徑跡蝕刻膜等材料實現(xiàn)更快更穩(wěn)定的測量周期
結(jié)論
獲得專利的MP²技術(shù)奠定了Porometer在孔隙測量領(lǐng)域創(chuàng)新的地位。
通過將智能過程控制與數(shù)十年專業(yè)經(jīng)驗相結(jié)合，Porometer持續(xù)將精準性與可靠性提升至全新高度。
注：以上內(nèi)容編譯自Porometer，圖片等內(nèi)容版權(quán)歸屬于Porometer
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